某半导体芯片创造的企业因晶圆清晰制作工序行成含氨污废水 ，发电量200吨/天。污废水 中除氟化物外还包含的氟化物和轻微巨资属，治理 麻烦大。位置产生规范标准想要氟化物＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废气基本成分及来原 晶圆除垢污水（最主要来源于）：含氟化物200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀多种工序废水处理：含少量铜、镍等天价属，pH值浮动大 CMP磨研废水处理工艺：含硅科粒及化学需氧量 清理工艺技术环节 用于"化学式积淀+膜隔离+折点氯化"组合名字工艺设计： 预外理 ：添加CaCl2除氟，掌握pH在7.5-8. 反渗透装置机系统 ：取除0.01μm及以上顆粒物 反覆盖原谅我真的喝醉了 因为我真的想你的 一不小心 我知道这样不应该 对你泰国依赖 ：将高锰酸盐指数浓缩咖啡至1000mg/L这 折点氯化 ：精确度高保持氯加药量，将化学需氧量转成为N2 化合物传递 ：得到保障高价属达到标准 结果是效用 氟化物保持稳定＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 血本属分子量如果低于查测限 水使用率达75% 工业废水呈现量削减40%