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半导体生产废水处理案例|半导体生产废水处理方法

投资项目背静 该半导体行业加工制造产业园设在华中地段,总融资多于200亿美金,其主要产生129英寸晶圆和现代化打包封装服务。产业园日尾气尾气排放口废供水量约5000吨,收录多个工艺技术电镀废水加工处理工艺,操作难易度大。产品特殊要求电镀废水加工处理工艺操作后到达《自动化企业水环境环境有害特性尾气尾气排放口规定》(GB 39731-2020)有点尾气尾气排放口规定值,部份回收利用率不如果低于60%。 废液成份及由来 含氟废污水:主要的来自于晶圆蚀刻、擦拭加工过程,氟正离子浓硫酸浓度万代高达200-500mg/L,pH值起伏较大大 巧妙质生产废水:光刻、成像、去胶等加工过程形成,COD浓硫酸浓度300-800mg/L,包含有异丙醇、异丙醇等巧妙质有机溶液 含铜工业废水:电镀层、化工厂家磨光(CMP)加工过程造成,铜铝离子溶度50-150mg/L 酸碱性废水处理方法:设备进行维护清洁、有机废气治理洗洁等重要环节生成,pH值在2-12直接下降 精磨化工废水:CMP多种工序所产生,含带奈米级二被氧化硅颗料 治理新工艺程序 选用"归类收录+分质正确处理+深度1净化系统"的组合构成施工工艺: 含氟废渣处置线 : 多级普通机械沉淀出的物:先加药系统氯化钙设定pH至6-7,另加入PAC和PAM二沉池沉淀出的物 亲水性钝化铝吸:以保证氟阴离子质量浓度下降5mg/L下 生活污水经板框压滤后受托职业处治 设计废水办理办理线 : 微电解法抛光预补救:铁碳微电解法抛光可降解大原子生产物 UASB水解酸化池症状器:HRT=24h,COD洗去率>60% MBR膜微生物发生反应釜:采取PVDF中空夹胶玻璃弹性纤维膜,通量15LMH 含铜废污水治理 线 : 化学上沉定:添加NaOH控制pH至9-10,变成Cu(OH)2沉定 阴阳阴阳离子互转:多级树脂胶互转以保证铜阴阳阴阳离子<0.3mg/L 钛电极收旧:部位废水处理工艺经钛电极收旧合金铜 终合工作设计 : 控制池:均衡化水环境水流量,设水解酸化池混和 沥青混凝土悠长岁月中:污泥脱水结合二沉池剂清理溶液成分 O3离子液体被氧化:溶解难溶解充分物 反渗入系统的:脱盐率>98%,产水使用于加工线 飞灰进行处理体系 : 生活污水精提池:混合物氧化还原电位从1%优化至3% 离心分离缺水:加如PAM冶疗,泥饼水分含量率<75% 环境温度干化:这部分厌氧颗粒污泥干化至水分含量率30%接下来 进而的效果 投资项目开工建设执行后,基本统计指标相对稳定符合要求:氟化物<5mg/L、COD<30mg/L、铜阴离子<0.3mg/L、pH 6-9。造纸废水处理水污水水质高达GB/T 19923-2005轻工业用自来水要求,造纸废水处理率65%,今年降鲜活水摄入量约140万吨。废水呈现量极大减少40%,的危险废品应急处置利润降35%。设计半工业自动化能力高,高清在线监测系统统计资料与环保性政府部门立即2.连接网络。

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